Theo Tổ chức Theo dõi Công nghiệp Bán dẫn ngày 13/6, các nhà nghiên cứu từ Tổ chức Nghiên cứu Máy gia tốc Năng lượng Cao Tsukuba (KEK) tại Nhật Bản đã đề xuất một giải pháp thay thế mới cho máy in thạch bản EUV. Giải pháp thay thế liên quan đến việc sử dụng năng lượng của máy gia tốc hạt để đạt được công nghệ in thạch bản EUV tiết kiệm hơn, nhanh hơn và hiệu quả hơn. Các nhà nghiên cứu cho biết ứng cử viên thay thế tốt nhất cho kỹ thuật in thạch bản EUV là phát triển máy gia tốc tuyến tính thu hồi năng lượng và sử dụng máy gia tốc hạt để hãm tái sinh. Công nghệ này có thể tạo ra hàng chục kilowatt laser điện tử tự do mạnh mẽ với chi phí tương đối thấp hơn để điều khiển nhiều máy in thạch bản thế hệ tiếp theo, từ đó giảm chi phí sản xuất chip tiên tiến.
TRANG TỔNG HỢP, PHÂN TÍCH TIN TỨC VỀ KH-CN
